滑走路がファッションショーの”ランウェイ”に ヘルシンキ国際空港で

2016年5月26日 木曜日 9:11 午前

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フィンエアーグループは、ヘルシンキ・ヴァンター国際空港との共同企画として、第2滑走路をファッションショーの“ランウェイ”に見立て、日本やフィンランドをはじめとする7か国のトップデザイナーを招聘して、1日限りのスペシャル・ファッションイベントを、特別企画「Match Made in HEL」の一環として5月24日に開催した。

日本やフィンランドのほか、中国、韓国、イギリス、スウェーデン、デンマークの7か国から7人のデザイナーが一堂に会し、それぞれの最新作を滑走路で披露。フェンランド航空(フィンエアー)とヴァンター国際空港はアジアへの近い点を多くアピールし、毎日数千人が利用していることから、アジアとヨーロッパのデザイナーを招聘することで、ハブ空港としての地位をアピールしたい考え。イベントにはファッションジャーナリストやインフルエンサーなど350人が出席した。日本からは、ファッションブランド「John Lawrence Sullivan」のファッションデザイナーである柳川荒士氏の作品が披露された。

滑走路上にはフィンエアーの大型機が駐機され、機体前方のドアからタラップを使って、モデルが登場した。

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